Descripción
Estas válvulas cuentan con sellos de anillo de fluoro carbono en forma de O (O-ring) con fuelles como eje integrados.
También tienen una tasa de fuga de 2×10-9 mbar.L/s soportando presiones atmosféricas hasta presiones de 1×10-9 Torr en alto vacío (HV), con cuerpo de Acero Inoxidable.
Recomendadas para aplicaciones donde se requiere una conexión de línea entre 2 puertos de desplazamiento. Disponibles para accionamiento manual y neumático.
Aplicación principal:
- Manufactura de semiconductores.
- Investigación física con plasma.
- Aceleradores nucleares.
