Descripción
Diseñados y fabricados a medida para depósito de recubrimientos y/o películas delgadas y ultra delgadas en vacío.
Hemos diseñado y fabricado más de 100 sistemas de alto vacío para depósito de películas delgadas y recubrimientos en operación utilizan varias técnicas PVD (Physical Vapor Deposition), PLD (Pulsed Laser Deposition), CVD (Chemical Vapor Deposition) y ALD (Atomic Layer Deposition), además de sistemas de:
- Evaporación por cañón de electrones
- Evaporación térmica
- Erosión catódica (sputtering)
- Arco Catódico (vacuum arc)
- CVD por plasma
- CVD por filamento caliente (hot wire CVD)
- Spray CVD.
Estas soluciones pueden ser manuales o semiautomatizados.
Contamos con sistemas base estándar configurables conforme a tus necesidades: Serie H, Serie TE, Serie V, Serie D, Serie S.
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